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    LCVD修補設(shè)備

          
    
          

          通過激光化學(xué)沉積的方法對金屬進(jìn)行薄膜沉積，廣泛應(yīng)用于光掩膜、液晶面板、光電子、微電子、集成電路、半導(dǎo)體器件（光電池/光波導(dǎo)/MOS器件/超導(dǎo)器件）的加工處理。
          

          


          
 
          

          
    
          
    
          
    
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