完滿收官丨清溢微SEMICON China 2025 精彩回顧

2025-04-09 09:42

2025年3月26日至28日，以"跨界全球?心芯相聯(lián)"為主題，備受矚目的SEMICON China 2025在上海新國際博覽中心圓滿落幕！作為全球半導(dǎo)體行業(yè)最具影響力的盛會(huì)之一，本屆展會(huì)展覽面積達(dá)10萬平方米，吸引了全球1400多家知名企業(yè)參展，參展人數(shù)預(yù)估超過15萬人次。展會(huì)涵蓋芯片設(shè)計(jì)、晶圓制造、封裝測試、EDA/IP、半導(dǎo)體設(shè)備及材料等全產(chǎn)業(yè)鏈。深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）作為中國獨(dú)立第三方掩膜專家亮相此次SEMI CHINA展會(huì)，與行業(yè)伙伴深入交流，共探發(fā)展機(jī)遇，充分展現(xiàn)了其在半導(dǎo)體材料行業(yè)中的創(chuàng)新實(shí)力和技術(shù)底蘊(yùn)。

圖一：SEMICON China 2025展會(huì)現(xiàn)場

在為期三天的行業(yè)盛會(huì)中，清溢微的展臺(tái)現(xiàn)場氛圍非常熱烈，咨詢聲、討論聲相互交織、連續(xù)不斷。本次SEMI CHINA展會(huì)，清溢微以其深厚的技術(shù)積累和持續(xù)創(chuàng)新的成果，吸引了眾多行業(yè)專業(yè)人士的關(guān)注。國內(nèi)外半導(dǎo)體行業(yè)的企業(yè)家、協(xié)會(huì)領(lǐng)導(dǎo)、技術(shù)專家、高校學(xué)者及供應(yīng)鏈專家紛紛在清溢微展臺(tái)前駐足，給業(yè)界留下了深刻印象。

圖二：清溢集團(tuán)參展人員合照

此次清溢微展位上，集中展出了多款掩膜版產(chǎn)品，其中包括六英寸130nm Binary Mask ,130nm PSM Mask ,150nm Mask等多倍版（4:1/5:1）廣泛使用于Fab/IDM 6寸，8寸以及12寸晶圓線的掩膜版產(chǎn)品，以及14英寸，9英寸，7英寸廣泛使用于先進(jìn)封裝線的掩膜版產(chǎn)品。

圖三清溢微參展接待團(tuán)隊(duì)合照

semi2 清溢微的業(yè)務(wù)和技術(shù)人員全程以飽滿的熱情接待各方來客，細(xì)致解答各類問題，與各方深入探討合作機(jī)遇與技術(shù)革新方向。

圖四：海外客戶蒞臨展會(huì)洽談業(yè)務(wù)

展會(huì)期間，清溢微還接受了各地行業(yè)協(xié)會(huì)、投資者、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟以及國內(nèi)外媒體的參觀和采訪。

圖五：清溢微在展會(huì)接待各方客戶

半導(dǎo)體掩膜版是芯片制造的關(guān)鍵工具，用于半導(dǎo)體制造的光刻環(huán)節(jié)，對晶圓光刻的質(zhì)量有重要影響。作為光刻復(fù)制圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜版是連接芯片設(shè)計(jì)和芯片制造的關(guān)鍵，掩膜版的精度和質(zhì)量水平會(huì)直接影響最終下游制品的良品率。以晶圓制造為例，其制造過程需要經(jīng)過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導(dǎo)體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等結(jié)構(gòu)。清溢微作為國內(nèi)真正的獨(dú)立第三方掩膜版公司，始終堅(jiān)持同廣大Fab廠及IDM公司合作共贏理念，一起讓科技為人類造福。

在SEMICON China 2025展會(huì)上,清溢微充分展示了在掩膜版領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力與創(chuàng)新精神，進(jìn)一步提升了公司的品牌知名度與行業(yè)影響力。我們將把展會(huì)上收集到的寶貴建議與合作機(jī)遇轉(zhuǎn)化為實(shí)際行動(dòng)，持續(xù)加大研發(fā)投入，不斷優(yōu)化產(chǎn)品與服務(wù)，為推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)力量。

展望來年，清溢微將緊跟中國半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展步伐，圍繞中高端半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域，持續(xù)加大研發(fā)投入和投資。佛山建設(shè)180nm~28nm高端掩膜版生產(chǎn)基地預(yù)計(jì)將在2025年底投產(chǎn)，屆時(shí)清溢微將憑借高節(jié)點(diǎn)掩膜版產(chǎn)品勇攀行業(yè)高峰，助力科技發(fā)展。

吳克強(qiáng)總經(jīng)理接待合肥新站高新區(qū)管委會(huì)副主任傅壯一行,共謀高質(zhì)量發(fā)展新篇章

吳克強(qiáng)總經(jīng)理赴佛山項(xiàng)目視察指導(dǎo)

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深圳清溢微首次亮相九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)CSE 2025

2025-05-08

2025年4月23日，第三屆九峰山論壇暨化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（CSE 2025）在武漢光谷科技會(huì)展中心盛大開幕。作為國內(nèi)化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域規(guī)模最大、規(guī)格最高的標(biāo)桿性展會(huì)，本屆博覽會(huì)匯聚了全球近300家企業(yè)及十余家頂尖科研機(jī)構(gòu)參展，產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋了材料、設(shè)備、EDA、工具制造到終端應(yīng)用全環(huán)節(jié)，展覽規(guī)模達(dá)2萬平方米，參會(huì)人數(shù)突破2萬人次。深圳清溢微電子有限公司（以下簡稱“清溢微”）作為中國獨(dú)立第三方半導(dǎo)體掩膜專家受邀參會(huì)，清溢微攜其高端掩膜版技術(shù)及創(chuàng)新成果首次亮相，成為展會(huì)上半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的焦點(diǎn)企業(yè)之一。

雙喜臨門！合肥清溢兩項(xiàng)創(chuàng)新成果斬獲市級(jí)、區(qū)級(jí)榮譽(yù)

2025-05-06

五一國際勞動(dòng)節(jié)前夕，合肥市及新站高新區(qū)職工創(chuàng)新成果評選陸續(xù)揭曉，合肥清溢光電有限公司（以下簡稱“合肥清溢”）憑借著技術(shù)突破與工藝創(chuàng)新，斬獲兩項(xiàng)殊榮。它們分別是制造廠光刻工程部徐智俊主導(dǎo)的“超高規(guī)掩膜版的激光直寫工藝優(yōu)化項(xiàng)目”榮獲合肥市第十屆職工技術(shù)創(chuàng)新成果優(yōu)秀獎(jiǎng)（圖一）；制造廠后處理工程部許鵬亮主導(dǎo)的“一種掩膜版清洗機(jī)廢氣氣液分離裝置項(xiàng)目”榮獲2025年新站高新區(qū)職工“五小”活動(dòng)創(chuàng)新優(yōu)秀成果（圖二）。以上兩項(xiàng)榮譽(yù)的取得，彰顯了合肥清溢在技術(shù)創(chuàng)新和智能智造發(fā)展領(lǐng)域的硬核實(shí)力!